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‍合肥重光電子科技有限公司是一家專業(yè)從事儀器設(shè)備的生產(chǎn)商。針對(duì)國家大力扶持的太陽能電池和半導(dǎo)體等科技領(lǐng)域。我司有專業(yè)的檢測(cè)儀器和工藝實(shí)驗(yàn)設(shè)備,能夠滿足不同客戶的打樣和定制化需求。同時(shí)我司與中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)微納加工平臺(tái)、合肥工業(yè)大學(xué)微納加工平臺(tái)保持技術(shù)上的交流,能有效幫助客戶解決工藝問題。我司提供產(chǎn)品的定制化代工業(yè)務(wù),滿足客戶對(duì)自營品牌的需求,讓客戶從而實(shí)現(xiàn)資產(chǎn)輕量化運(yùn)營。‍‍我司產(chǎn)品優(yōu)勢(shì):提供定制化服務(wù),滿足客戶多樣化需求,從而為客戶節(jié)約更多科研經(jīng)費(fèi)。其中低速勻膠平穩(wěn),結(jié)束低粘度光阻勻膠依賴進(jìn)口品牌。
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  • 安徽省合肥市經(jīng)開區(qū)宿松路9996號(hào)
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    公司成立于2019年

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去膠清洗
涂膠顯影機(jī)
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Technical Articles

技術(shù)文章

  • 2025-129
    半導(dǎo)體設(shè)備:構(gòu)筑芯片產(chǎn)業(yè)的“堅(jiān)實(shí)基石”

    半導(dǎo)體設(shè)備是芯片研發(fā)與制造的核心支撐,涵蓋光刻、沉積、蝕刻、清洗、檢測(cè)等全流程,其性能與可靠性直接決定芯片的質(zhì)量、成本與產(chǎn)能。從原材料加工到芯片封裝測(cè)試,每一個(gè)環(huán)節(jié)都離不開半導(dǎo)體設(shè)備的精準(zhǔn)賦能,它不僅是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的“生產(chǎn)工具”,更是保障產(chǎn)業(yè)鏈自主可控的戰(zhàn)略核心。傳統(tǒng)半導(dǎo)體設(shè)備存在兼容性差、制程適配范圍窄等問題,難以滿足多品類芯片的制造需求?,F(xiàn)代半導(dǎo)體設(shè)備通過模塊化設(shè)計(jì)與智能化升級(jí),實(shí)現(xiàn)全流程適配:沉積設(shè)備采用原子層沉積(ALD)技術(shù),可在晶圓表面形成厚度均勻的納米級(jí)薄膜,滿足...

  • 2025-125
    等離子清洗機(jī):半導(dǎo)體制造中的精密表面處理核心設(shè)備

    在半導(dǎo)體器件的制備流程中,晶圓及零部件的表面潔凈度直接決定了芯片的良率與性能。傳統(tǒng)濕法清洗易殘留化學(xué)試劑、難以處理微米級(jí)精細(xì)結(jié)構(gòu),而等離子清洗機(jī)憑借干式、無損傷、高精度的處理特性,成為半導(dǎo)體制造環(huán)節(jié)中重要的表面處理設(shè)備,廣泛應(yīng)用于光刻前預(yù)處理、鍵合前活化、封裝去膠等關(guān)鍵工序。一、等離子清洗機(jī)的核心工作原理等離子清洗機(jī)的核心是通過射頻電源激發(fā)工作氣體,使其電離形成由電子、離子、自由基等組成的等離子體。這些活性粒子具有很高的化學(xué)活性與物理動(dòng)能,可通過兩種方式實(shí)現(xiàn)表面清洗:1.物理...

  • 2025-1127
    膜厚測(cè)量儀在多個(gè)領(lǐng)域發(fā)揮著重要作用

    膜厚測(cè)量儀是一種利用光學(xué)、電學(xué)或射線等原理,準(zhǔn)確測(cè)量薄膜或涂層厚度的儀器,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光學(xué)、材料科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)及環(huán)境保護(hù)等領(lǐng)域。膜厚測(cè)量儀的核心原理基于光的干涉與反射。當(dāng)光波照射到被測(cè)膜層時(shí),部分光波在膜層表面反射,部分穿透膜層并在膜層與基底界面反射。這兩部分反射光波因光程差產(chǎn)生干涉現(xiàn)象,形成干涉圖樣。通過分析干涉圖樣,可獲取光波相位差信息,進(jìn)而通過數(shù)學(xué)關(guān)系準(zhǔn)確計(jì)算膜層厚度。這一方法具有非接觸、高精度、無損傷等優(yōu)點(diǎn),測(cè)量精度可達(dá)納米級(jí)別。膜厚測(cè)量儀作用:半導(dǎo)體制造:半導(dǎo)...

  • 2025-1127
    顯影機(jī):光刻工藝的“圖形顯現(xiàn)師”

    顯影機(jī)是光刻工藝中的核心設(shè)備,其核心作用是將晶圓表面光刻膠經(jīng)曝光后形成的“潛影”(肉眼不可見),通過化學(xué)作用轉(zhuǎn)化為清晰可見的精細(xì)電路圖形,是半導(dǎo)體芯片制造、精密電子元件生產(chǎn)中連接“曝光”與“蝕刻”的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。顯影機(jī)的工作流程可簡化為三步:首先,將曝光后的晶圓輸送至顯影腔室;隨后,通過噴淋或浸泡方式,將顯影液均勻作用于晶圓表面,選擇性溶解未曝光(正膠)或曝光(負(fù)膠)的光刻膠,使?jié)撚帮@現(xiàn);最后,經(jīng)清洗去除殘留顯影液、烘干固化,形成穩(wěn)定的電路圖形基礎(chǔ)。其核心結(jié)構(gòu)包括輸送系統(tǒng)(保證晶...

  • 2025-1110
    半導(dǎo)體涂膠均勻性提升方法:從工藝到設(shè)備的全維度優(yōu)化

    半導(dǎo)體涂膠均勻性提升方法:從工藝到設(shè)備的全維度優(yōu)化半導(dǎo)體涂膠作為光刻、蝕刻等核心制程的前置關(guān)鍵步驟,其膜厚均勻性直接影響芯片圖形轉(zhuǎn)移精度、電性能一致性及良率。提升涂膠均勻性需圍繞“材料適配、設(shè)備校準(zhǔn)、工藝調(diào)控、環(huán)境管控”四大核心維度,通過系統(tǒng)性優(yōu)化實(shí)現(xiàn)納米級(jí)膜厚偏差控制,具體方法如下:一、材料特性精準(zhǔn)匹配與預(yù)處理-優(yōu)化光刻膠配方參數(shù):根據(jù)涂膠方式(旋涂、狹縫涂膠、噴霧涂膠)調(diào)整黏度、表面張力及固含量,例如旋涂工藝需降低高黏度膠的剪切稀化效應(yīng),狹縫涂膠則需保證膠液在接觸晶圓時(shí)的...

  • 2025-116
    洞察微觀,精準(zhǔn)測(cè)厚:膜厚測(cè)量儀的技術(shù)與應(yīng)用

    在任何涉及薄膜材料的工業(yè)與科研領(lǐng)域,薄膜的厚度是其物理、化學(xué)、電學(xué)及光學(xué)性能的決定性因素之一。從納米級(jí)的芯片柵氧層,到微米級(jí)的光學(xué)鍍膜、光伏薄膜,厚度上埃級(jí)(?)的偏差都可能導(dǎo)致產(chǎn)品性能的巨大差異甚至失效。膜厚測(cè)量儀作為薄膜工藝的“眼睛”,通過非接觸、無損的精密測(cè)量,為工藝開發(fā)、質(zhì)量控制和科學(xué)研究提供著定量數(shù)據(jù)支撐。一、多技術(shù)原理:應(yīng)對(duì)不同的測(cè)量需求不存在一種“萬能”的膜厚測(cè)量技術(shù),各類儀器基于不同物理原理,適用于特定場(chǎng)景。常見的膜厚測(cè)量儀主要包括:1、橢圓偏振儀:這是測(cè)量透...

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